| Titel | Hochauflösende Rasterkraftmikroskopie — von der Verschleißanalyse bis zur Aufklärung mikroskopischer Schmiermechanismen |
| Autor | Roland Bennewitz |
| Infos zum Autor | Autorenanschrift: Prof. Dr. Roland Bennewitz INM — Leibniz-Institut für Neue Materialien Campus D2 2 66123 Saarbrücken Email: roland.bennewitz@inm-gmbh.de |
| Inhalt | Zusammenfassung Die Rasterkraftmikroskopie (englisch Atomic Force Microscopy, AFM) erlaubt die Abbildung von Oberflächen mit einer solch hohen Auflösung, dass der Verschleiß einzelner atomarer Lagen in tribologischen Experimenten nach- gewiesen werden kann. Als Beispiel diskutieren wir den Abrieb von Graphenlagen von Siliziumkarbid. Durch die Empfindlichkeit der Rasterkraftmikroskopie auf molekulare Kräfte kann sie auch zur Aufklärung von mikroskopischen Mechanismen in Reibung und Verschleiß beitragen. Wir berichten unter anderem über die Strukturbildung in ioni- scher Flüssigkeiten an Oberflächen, die zu einer elektrochemisch einstellbaren Schmierwirkung führt. Abstract Atomic force microcopy (AFM) allows for surface imaging with a resolution high enough to detect the wear of single atomic layers tribological experiments. Here we discuss the wear of graphene layers from silicon carbide substrates. The sensitivity of atomic force microscopy to molecular force can contribute to the discovery of microscopic mecha- nisms in friction and wear. We report on the layering of ionic liquids at surfaces, which results in an electrochemically switchable lubrication. |
| Datum | 2013 |
